五十嵐 光永

この代理人が出願した発明- 116件

• 高平滑ガスバリアフィルムおよびその製造方法

  【課題】表面平滑性、ガスバリア性および密着性に優れた高平滑ガスバリアフィルムおよびその製造方法を提供する。【解決手段】フィルム基材上に高平滑化層、中間層及びガスバリア層がこの順に積層された構成を有し、該中間層は、該フィルム基材に...
  出願人・権利者：リンテック株式会社 発明2008246893号

• ガスバリアフィルムおよびその製造方法

  【課題】ガスバリア性および密着性に優れたガスバリアフィルムおよびその製造方法を提供する。【解決手段】フィルム基材上にガスバリア層が積層された構成を有し、該ガスバリア層は、該フィルム基材に高周波電力を印加して該フィルム基材の周辺で...
  出願人・権利者：リンテック株式会社 発明2008246894号

• 環状化合物の製造方法

  【課題】触媒を再利用することができる簡単な方法で、求核基を有するアルケン化合物を分子内環状化できる工業的な方法を提供すること。【解決手段】 下記一般式（１）［化１］（式中、Ｒ１は水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アル...
  出願人・権利者：日本化学工業株式会社 発明2007269777号

• 電動６輪車椅子

  【課題】 凹凸路面等の悪路走行性能に優れ、野外走行においても、小回りが利き、転倒しにくい安定性を持つ６輪電動車椅子を提供すること。【解決手段】 一対の前輪と、一対の中輪と、一対の後輪とを有し、かつ、これら６輪のそれぞれに独立...
  出願人・権利者：エナックス株式会社 発明2007061342号

• 防錆顔料及びこれを含有する防錆塗料組成物

  【課題】金属材料に優れた防錆性を付与することができる無公害型防錆顔料及びこれを含有する防錆塗料組成物の提供。【解決手段】Ｐ２Ｏ５と、ＣａＯと、ＳｉＯ２と、ＭｇＯとを含有する非晶質無機組成物からなることを特徴とする防錆顔料。Ｐ２Ｏ...
  出願人・権利者：日本化学工業株式会社 発明2008144105号

• 基板保持リング

  【課題】基板の汚染や基板の損傷というリスクを最小としつつ研磨効率や平坦性の一様度や最終仕上げ度合いを最適化し得るような化学的機械的研磨装置を提供する。【解決手段】研磨装置において使用するための基板保持リング１６６であって、保持リ...
  出願人・権利者：株式会社荏原製作所 発明2008302495号

• 燐酸水素アルカリ土類金属塩及びその製造方法並びに該燐酸水素アルカリ土類金属塩を用いた蛍光体

  【課題】アスペクト比が大きな柱状のハロ燐酸アルカリ土類金属塩蛍光体の製造原料として有用な、新規の燐酸水素アルカリ土類金属塩及びその製造方法並びにこれを用いて得られた蛍光体の提供。【解決手段】一般式ＳｒｘＭ（１−ｘ）ＨＰＯ４（ただ...
  出願人・権利者：日本化学工業株式会社 発明2008137865号

• 研磨方法および電解複合研磨装置

  【課題】配線金属層６６の凹部６７を解消することが可能な研磨方法を提供する。【解決手段】基板Ｗ表面の配線金属層６６に電解液５０を接触させて配線金属層６６に給電しつつ、基板Ｗ表面を研磨パッド１０１に押圧しながら基板Ｗと研磨パッド１０...
  出願人・権利者：株式会社荏原製作所 発明2009088448号

• 電解複合研磨方法および研磨方法

  【課題】ディッシングやエロージョンなどの過研磨を防止しつつ、研磨速度を向上させることが可能な電解複合研磨方法を提供する。【解決手段】基板表面と研磨パッドとの接触面圧を０とした状態で、基板表面の導電膜に印加する電圧を増加させた場合...
  出願人・権利者：株式会社荏原製作所 発明2009094343号

• 電解複合研磨方法

  【課題】ディッシングやエロージョンなどの過剰研磨を防止しつつ、コンタクトプラグや配線形成領域以外の導電膜を迅速に除去することができる電解複合研磨方法を提供する。【解決手段】電圧を高める工程では、接触面圧を０とした状態で、電圧を高...
  出願人・権利者：株式会社荏原製作所 発明2009102694号

• 基板を電解研磨する方法及び電解研磨装置

  【課題】Ｌｏｗ−ｋ膜等の絶縁膜に対するダメージが少なく、ディッシング、エロージョンが低減できる基板を電解研磨する方法を提供する。【解決手段】バリア膜３と配線金属層４とを被加工面に有する基板１Ａ，１Ｂを陰極とし、当該被加工面と陽極...
  出願人・権利者：株式会社荏原製作所 発明2009108405号

• フロー系レーザーアブレーション用ポンプ及びレーザーアブレーションシステム

  【課題】レーザーアブレーションシステムに固形物を沈降させずに一定量を安定して供給し得るフロー系レーザーアブレーション用ポンプの提供。【解決手段】レーザー光を発する光源を含み、固形物を分散させた分散液を流路に連続的又は間歇的に供給...
  出願人・権利者：株式会社荏原製作所 発明2009115056号

• 液中レーザーアブレーション用デバイスおよび液中レーザーアブレーションシステム

  【課題】大きさが均一な極微粒子の連続的かつ大量製造を可能とし、対象とする全ての有機化合物に対して、照射回数もしくは照射時間が均等になるようにレーザー光を照射して、微細化が不十分な粒子の生成、および、想定した照射回数もしくは照射時...
  出願人・権利者：株式会社荏原製作所 発明2009119379号

• 電解複合研磨方法及び電解複合研磨装置

  【課題】研磨後の金属膜の表面粗さを抑えることができる電解複合研磨方法及び電解複合研磨装置を提供する。【解決手段】基板Ｗ表面の金属膜と対向電極間に電解液５０を存在させて、前記金属膜と対向電極間に電圧を印加し、基板Ｗ表面を研磨パッド...
  出願人・権利者：株式会社荏原製作所 発明2009125825号

• 表示装置用ガラス基板、粘着シート、表示パネル、表示装置、表示装置用ガラス基板の製造方法、表示パネルの製造方法

  【課題】十分な強度を確保でき、かつ形状精度に優れ、しかも生産性を向上させることができる表示装置用ガラス基板、表示パネル、表示装置を提供する。【解決手段】一対のガラス基板３と表示層４を有する表示装置１０。ガラス基板３は、粗面化され...
  出願人・権利者：リンテック株式会社 発明2009151014号

• キトサン含有組成物とその製造方法

  【課題】医薬品添加物、飲食物及び化粧品に応用できる産業上有用な、水溶液の状態で中性〜弱アルカリ性のｐＨ域である透明な水溶液、ゲル及びこれらの乾燥粉末のいずれかの状態のキトサン含有組成物、並びにその製造方法の提供。【解決手段】キト...
  出願人・権利者：株式会社荏原製作所 発明2009167124号

• 燃料電池の燃料費の徴収方法、燃料電池の維持費の賦課方法、及び、燃料電池の燃料使用料金徴収システム

  【課題】燃料電池の導入、普及を促進する。【解決手段】燃料電池１を使用する需要家に於いて、その燃料電池１が、その需要家で使用する電力以上の電力を発電し、その余剰電力を電力供給会社に売電する場合に用いられる燃料電池の燃料使用料金徴収システ...
  出願人・権利者：株式会社荏原製作所 発明2009048536号

• 含珪素化合物、低誘電率材料、膜および半導体デバイス

  【課題】耐熱性に優れ、且つ有機溶媒に可溶で、加工性、機械強度、基板密着性に優れ、絶縁材料、半導体用低誘電率材料、気体分離膜、電子デバイス封止剤、建設用シーリング材料などに用いることが可能な含珪素化合物を提供する。【解決手段】式（１）で...
  出願人・権利者：株式会社荏原製作所 発明2009249593号

• 復水脱塩方法及び復水脱塩装置

  【課題】ＢＷＲ原子力発電プラントの復水脱塩装置による復水処理において、クラッド濃度が低く且つ硫酸イオン濃度の低い、高純度な処理水質を得ることのできる復水脱塩方法及び装置の提供。【解決手段】沸騰水型原子力発電プラントの復水をイオン交換樹...
  出願人・権利者：株式会社荏原製作所 発明2009279519号

• 復水脱塩方法及び復水脱塩装置

  【課題】カチオン交換樹脂から溶出するＴＯＣ由来の硫酸イオン濃度の低い、高純度な処理水質を得ることが可能な復水脱塩方法及び装置の提供。【解決手段】沸騰水型原子力発電プラントの復水をイオン交換樹脂で脱塩処理する復水脱塩方法において、（ａ）...
  出願人・権利者：株式会社荏原製作所 発明2009281873号

• 復水脱塩方法及び復水脱塩装置

  【課題】カチオン樹脂とアニオン交換樹脂から溶出するＴＯＣ由来の硫酸イオン及び硝酸イオン濃度の低い、高純度な処理水質を得ることが可能な復水脱塩方法及び装置の提供。【解決手段】沸騰水型原子力発電プラントの復水をイオン交換樹脂で脱塩処理する...
  出願人・権利者：株式会社荏原製作所 発明2009281874号

• 復水脱塩方法及び復水脱塩装置

  【課題】原子力発電プラントの復水脱塩装置による復水処理において、カチオン交換樹脂から溶出するＴＯＣ由来の硫酸イオン濃度の低い、高純度な処理水質を得ることができる復水脱塩方法及び装置の提供。【解決手段】原子力発電プラントの復水をイオン交...
  出願人・権利者：株式会社荏原製作所 発明2009281875号

• 置換ポリアセチレンとその製造方法、電解質膜、電解質膜・電極接合体、電気化学デバイス及び燃料電池

  【課題】電気化学デバイスで使用するのに充分な電解質特性を示し、かつ用途に対し充分な耐熱性、耐酸化性および機械的強度を有し、廃棄の際に環境負荷の大きなフッ素を含まず、製膜性など加工性に優れた電解質膜を提供する。【解決手段】下記式（１）で...
  出願人・権利者：株式会社荏原製作所 発明2009292947号

• プリント回路基板用銅及び銅合金の表面処理液と表面処理方法

  【課題】簡便に処理でき、銅及び銅合金の表面を粗化することなく、ドライフィルムレジスト等を強固に密着させ得る表面に仕上げることのできる銅及び銅合金の表面処理液とそれを用いたプリント回路基板用表面処理方法の提供。【解決手段】過酸化水素と、...
  出願人・権利者：株式会社荏原電産 発明2009299096号

• ペグ修飾ハイドロキシアパタイト及びそれを基材とする医薬とその製造方法

  【課題】ハイドロキシアパタイト粒子表面をポリエチレングリコール誘導体で修飾することにより、安全性の高い、新たな機能を有するＰＥＧ修飾ＨＡＰと、それを用いる用途とその製造方法を提供する。【解決手段】粒径が５０μｍ〜１０ｎｍのハイドロキシ...
  出願人・権利者：株式会社荏原製作所 発明2010018772号